本年度招聘2~3名博士后/助理研究员/工程师/研究实习员

岗位说明：

重点开展集成电路14nm及以下技术节点的先进光刻工艺和计算光刻仿真，以更小技术节点先进光刻技术创新为驱动力，为集成电路企业提供光刻解决方案。

1.OPC研究方向：从事先进计算光刻研究—OPC、SMO等建模、分析、仿真优化；

2.DTCO研究方法：先进技术节点设计与制造协同优化DTCO

课题组立足中科院微电子所和先导工艺研发中心，长期与国内外研究院所，集成电路制造、仿真、设备、材料等相关企业保持联合研发关系，具有良好的前沿研究和产业合作能力。

岗位要求：

1、半导体、微电子、光学工程等相关专业，硕士(含)以上学历，应届毕业生；

2、工作认真负责，踏实肯干，有较强的英语阅读和中英文写作能力；

3、具有较强的学习能力,能够追踪世界前沿工艺发展；

4、为人正直，诚实守信，有较强的责任心与事业心，有独立开展科研工作的能力，具有良好的团队协作精神，善于沟通；

5、熟悉Matlab编程、数据或图像处理与分析，或熟悉python、C语言，或承担芯片设计、制造、仿真等相关项目的经历；

6、熟悉计算光刻相关的EDA工具，或熟练掌握FDTD、FEM等光学仿真平台/软件者，优先考虑。

注：5和6满足其中的任意一项内容即可。

待遇：聘用人员工资待遇按研究所相关规定执行

应聘方式：

1、首先提交一份申请信及简历至招聘邮箱icac_hr@ime.ac.cn，邮件标题注明：应聘某某岗位+本人姓名+中国研究生招聘网，随信请注明参加项目情况、第一作者文章发表情况、以及预计到岗时间；

2、初选合格者会收到邮件或电话确认，随后安排相关面试及后续程序。

课题组长简介：韦亚一，男，博士，中组部第八批“千人计划”入选者，中国科学院微电子研究所研究员，博士生导师。1992年毕业于中国科学院电子学研究所，获硕士学位；1998年毕业于德国Stuttgart大学/马普固体研究所，获博士学位，师从诺贝尔物理奖获得者KlausvonKlitzing。先后在美国能源部橡树岭国家实验室、美国英飞凌和安智公司纽约研发中心、美国格罗方德公司纽约研发中心（任职光刻部门经理）等工作。长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，先后参与或主持了从180nm到14nm节点的技术研发，特别是主持研发28nm、20nm和14nm先进光刻工艺和计算光刻研发，取得了多项核心技术和丰硕成果，具有丰富的技术和管理经验。对半导体和纳米微制作、先进光刻、薄膜沉积、微测量理论和实践等有较深入的研究，有超过60篇的专业文献和多项美国专利。由于在193nm浸没式光刻技术上的开创性贡献，于2009年受SPIE邀请出版专著“Advancedprocessesfor193nmimmersionlithography”，该书已被美国多所中国研究生招聘网校和研究机构作为研究生的教材和主要参考书。于2016年在科学出版社出版专著《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》。

其他事宜，请关注我们的微信公众号“光刻人的世界”，了解前沿进展和组内研究方向。

中科院微电子研究所韦亚一团队

2017-02-06

来源：

http://job.bit.edu.cn/main/news/jobs/detail9/Article/News/detail/25839.html

应聘时请将简历抄送一份到：chinayanjiusheng@126.com，邮件标题：应聘单位名称、姓名、学历、专业、博士研究生招聘网